二氟化氙(XeF2),又称二氟代氙,分子量为169.30,是一种无色固体,在电子工业中,XeF2常被用作硅的蚀刻气体,由于XeF2和硅的化学反应是自发反应,XeF2对硅的刻蚀工艺具有非常高的选择性,在XeF2对硅进行刻蚀过程中,XeF,气体通过自由扩散到硅衬底表面,并与最外层硅原子发生化学反应生成气态Xe和气态SiF4,从而实现对硅的腐蚀。
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