钨铼配比：WRe3%, WRe5% ,WRe10% ,WRe25%, WRe26%

尺寸范围：厚（0.2-20）×宽（≯500）×长（≯1000）

我司采用固液法混料提高铼的均匀性，同时通过多次锻打和退火提高密度和改善组织，提高阳极靶的使用性能和寿命。

工艺流程：配粉→压制→烧结→锻打→退火→机加工→动平衡→真空除气→包装

用途

钨具有高熔点，且被高速电子束照射时可以产生X射线，因此常被用作各种X射线管的X射线发生源，而钨铼靶材兼具高强度、韧性、耐热性以及高精度等优点，同时支持高功率电子束，常被用于医用X射线管。同时钨铼靶还广泛应用于磁控溅射中。