钨铼靶钨铼溅射靶
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- 品牌： 铼因
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钨铼配比：WRe3%, WRe5% ,WRe10% ,WRe25%, WRe26%
尺寸范围：厚（0.2-20）×宽（≯500）×长（≯1000）
我司采用固液法混料提高铼的均匀性，同时通过多次锻打和退火提高密度和改善组织，提高阳极靶的使用性能和寿命。
工艺流程：配粉→压制→烧结→锻打→退火→机加工→动平衡→真空除气→包装
用途
钨具有高熔点，且被高速电子束照射时可以产生X射线，因此常被用作各种X射线管的X射线发生源，而钨铼靶材兼具高强度、韧性、耐热性以及高精度等优点，同时支持高功率电子束，常被用于医用X射线管。同时钨铼靶还广泛应用于磁控溅射中。
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产品参数
- 品牌 铼因
- 规格型号 99.99%
- 行业分类 冶金矿产/稀有金属
- 产品类别
- 生产商
- 产地 中国湖南省长沙市
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