明细介绍：

真空室尺寸(直径×高) φ900×1000极限真空度 3.0×10-4pa恢复真空时间 4.0×10-3pa 15min抽气系统 扩散泵tk-500×2 罗茨泵zjp-300 机械泵2x-70特点大抽速真空系统加配深冷装置，优秀的动态真空能力，满足高效率生产的要求。装载量更大，如需镀制大尺寸平面产品，可配备平面夹具配备为该系列镀膜机特殊设计的单电子枪，可使膜料面平整无坑、确保蒸发分布稳定。可配置在线反射率监控系统，产品一致性好。德国莱宝 型号：aps1104 空空室尺寸：1100*1200mm深冷装置：温度-135℃，抽速90000l/s，功率7.5kw真空性能：极限5×10-4pa,抽速：大气到5×10-3pa小于10分钟，升压时间：1×10-3pa到1×10-1pa大于10分钟转动夹具：球面或平面，5-20转/立式公转夹具电子枪：单双枪/电阻+磁控溅射离子源：矩形离子源晶体膜厚仪：sqc-310（全中文操作界面）宽光谱监控：400-1200nm多片反射。

用途：

多种材料,如金属、半导体、绝缘子等.它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点.磁控溅射发展至今,除了上述一般溅射方法的优点外,还实现了高速、低温、低损伤。以下是磁控溅射的六大应用.

各种功能薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能.例如,在低温下沉积氮化硅减反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率.

库存明细：