光驰OTFC-1550型23寸射频源真空镀膜机是面向光学薄膜制造的高端设备，其技术参数、应用领域及流通情况如下：

 ‌一、核心配置‌ ‌真空系统‌ 真空室尺寸为Ф1550×1800mm，采用SUS304不锈钢材质，具备高耐腐蚀性和密封性。工件架直径Ф1400mm，转速10-30rpm可调，支持行星式或钟罩式运行模式。排气系统由机械泵（275/SV630型号）+罗茨泵（爱德华品牌）+扩散泵+低温冷凝器（POLYCOLD）组成，极限真空度≤7.0×10⁻⁵Pa，抽气至工作真空仅需15分钟。 ‌射频离子源‌ 搭载23寸射频离子源（RF离子源），通过高密度离子电流提升膜层致密性和耐磨性（通过4万次摩擦试验验证），适用于AR/AF膜及高反射膜制备。 ‌蒸发系统‌ 配备双电子枪（16F/16P型号）及12穴环形坩埚，支持100层以上复杂镀膜结构，兼容热阻蒸和电子束蒸发工艺12。 ‌监控系统‌ 集成HOM2R-VIS350A光学膜厚监控仪（波长范围350-1100nm），搭配XTC/3控制系统及6点式水晶传感器，实现纳米级镀膜精度。

 ‌二、应用领域‌ ‌光学器件‌：红外截止滤光片、分色滤光片等多层光学薄膜制备。 ‌电子与显示‌：智能手机触摸屏防污膜（AS膜）及防反射膜（AF+AS膜）批量生产。 ‌精密镀膜‌：支持陶瓷、金属基板和塑胶基材的高反射膜、介质膜等复杂结构镀膜。

 ‌三、设备参数‌ ‌电源需求‌：3相200V，50/60Hz，功率约80-120KVA。 ‌能耗配置‌：水流量≥180升/分，空气压力≥0.5MPa。 ‌尺寸与重量‌：设备尺寸约6300×9000×4000mm，重量11000-12000kg。 ‌四、技术优势‌ ‌耐摩擦性能‌：通过4万次摩擦试验验证，膜层结合力与耐久性优异。 ‌自动化控制‌：支持全自动蒸镀流程，含在线阻针检测功能，提升量产稳定性.